EFECTO DE LA TEMPERATURA DE DEPOSICIÓN EN LOS PARÁMETROS ESTRUCTURALES Y DE TRANSICIÓN METAL-AISLANTE, DE PELÍCULAS DELGADAS DE DIÓXIDO DE VANADIO (VO2)

EFECTO DE LA TEMPERATURA DE DEPOSICIÓN EN LOS PARÁMETROS ESTRUCTURALES Y DE TRANSICIÓN METAL-AISLANTE, DE PELÍCULAS DELGADAS DE DIÓXIDO DE VANADIO (VO2)

Se investigó el efecto de la temperatura de deposición en los parámetros estructurales y de transición de la fase metal–aislante en películas delgadas de VO2, producidas mediante la técnica de Erosión Iónica en atmósfera reactiva. Las muestras fueron producidas como monocapas y depositadas a distint...

Descripción completa

Detalles Bibliográficos
Autores principales: Santamaría L., Marciano, Cruz de Gracia, Evgeni S., Schelp, Luiz F., Mori de Almeida, Thiago, Domínguez Della Pace, Rafael
Formato: Online
Idioma:spa
Publicado: Universidad de Panamá. Facultad de Ciencias Naturales, Exactas y Tecnología 2013
Acceso en línea:https://revistas.up.ac.pa/index.php/tecnociencia/article/view/1179
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spelling TECNOCIENCIA11792022-04-01T22:06:14Z EFECTO DE LA TEMPERATURA DE DEPOSICIÓN EN LOS PARÁMETROS ESTRUCTURALES Y DE TRANSICIÓN METAL-AISLANTE, DE PELÍCULAS DELGADAS DE DIÓXIDO DE VANADIO (VO2) Santamaría L., Marciano Cruz de Gracia, Evgeni S. Schelp, Luiz F. Mori de Almeida, Thiago Domínguez Della Pace, Rafael Transición Metal–Aislante (MIT) Erosión Iónica Difracción de rayos X (XRD) Temperatura de Transición Metal–Aislante (TMIT) Histéresis Térmica Metal–Insulator Transition (MIT) Sputtering X-ray diffraction (XRD) Metal–Insulator Transition Temperature (TMIT) Thermal Hysteresis We have investigated the effect of the deposition temperature in the structural parameters and the metal–insulator phase transition of VO2 thin films, produced by sputtering technique in a reactive atmosphere. Samples were produced as monolayers and deposited on SiO2/Si (100) substrates at different temperatures. Structural characterization by X–ray diffraction (XRD) showed the presence of VO2 (M1) phase. The lattice parameters and the unit cell volume change slightly with increasing deposition temperature. Electrical characterization of resistance as a function of temperature using the four point method shows reversible phase transition with thermal hysteresis in all samples. As the deposition temperature increases, an increase in the transition temperature (TMIT) between 67 ° C and 73 ° C for the heating cycle is observed, along with a decrease in the variation of the electrical resistance,. Also, decreases in the variation of the electrical resistance affecting the shape and size of the hysteresis loop. Experimental results show that the VO2 thin films are polycrystalline and the temperature deposition affects the structural parameters and metal–insulator transition, explaining the appearance of stress in the material. Se investigó el efecto de la temperatura de deposición en los parámetros estructurales y de transición de la fase metal–aislante en películas delgadas de VO2, producidas mediante la técnica de Erosión Iónica en atmósfera reactiva. Las muestras fueron producidas como monocapas y depositadas a distintas temperaturas sobre substratos de SiO2/Si (100). La caracterización estructural por difracción de rayos X (XRD) mostró la presencia de la fase M1 del VO2. Los parámetros de red y el volumen de la celda unitaria cambian levemente con el aumento de la temperatura de deposición. La caracterización eléctrica de la resistencia como función de la temperatura, por el método de cuatro puntas, muestra transición de fase reversible, con histéresis térmica en todas las muestras. Conforme aumenta la temperatura de deposición, se observó un incremento en la temperatura de transición (TMIT), entre 67 °C y 73 °C, para el ciclo de calentamiento, manifestándose además, una disminución en la variación de la resistencia eléctrica durante la transición, afectando la forma y tamaño del lazo de histéresis. Los resultados experimentales demuestran que las películas delgadas de VO2 son policristalinas y que la temperatura de deposición afecta los parámetros estructurales y de transición metal–aislante, explicando la aparición de estrés en el material depositado. Universidad de Panamá. Facultad de Ciencias Naturales, Exactas y Tecnología 2013-09-02 info:eu-repo/semantics/article info:eu-repo/semantics/publishedVersion Artículo revisado por pares application/vnd.openxmlformats-officedocument.wordprocessingml.document https://revistas.up.ac.pa/index.php/tecnociencia/article/view/1179 Tecnociencia; Vol. 15 Núm. 2 (2013): Tecnociencia; 85-106 2415-0940 1609-8102 spa https://revistas.up.ac.pa/index.php/tecnociencia/article/view/1179/989
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