| Sumario: | Introducción. El silicio en banano (Musa spp.) y su nivel crítico al ser aplicado de forma foliar es poco conocido. Por ello, en la presente investigación se propuso como hipótesis que la aplicación foliar de dosis frecuente de ácido monosilicico (SiOH4) incrementa el contenido nutricional del silicio en el cultivo. Objetivo. Evaluar la respuesta del cultivo de banano a dosis crecientes de Si, para determinar el efecto nutricional foliar en las condiciones específicas de la provincia de El Oro. Materiales y métodos. Los ensayos fueron implementados en campo en un diseño experimental en bloques completamente aleatorio, donde se aplicaron dosis crecientes de Si (0; 250; 500 y 750 cm3. ha-1), para evaluar su efecto en el nivel de Si foliar, clorofila y raíces, a partir de análisis foliares y de raíces. Se realizaron análisis de regresión y se obtuvieron los respectivos modelos de relación entre las dosis de Si aplicadas con el nivel de Si foliar en banano y clorofila. Resultados. Se obtuvo que un modelo de regresión lineal (R2: 0,43) que podría ayudar a predecir el nivel crítico de Si foliar en banano. Conclusiones. Se encontró mediante la aplicación de una ecuación lineal que entre mayor sea la dosis de Si aplicada (750 cm3) se lograra un mayor nivel de Si foliar (0,41%) en plantas de banano.
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